真空鍍膜機真空蒸鍍是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基材表面析出的過程。（真空蒸鍍中的金屬鍍層通常為鋁膜，但其他金屬如鉻也可通過蒸發(fā)沉淀；厚度在30um左右。）
真空鍍膜機真空蒸鍍流程如下：
真空蒸鍍是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流入射到固體（稱為襯底或基片）表面凝結形成固態(tài)薄膜。關于蒸發(fā)源的形狀可根據(jù)蒸發(fā)材料的性質(zhì)，結合考慮與蒸發(fā)材料的濕潤性，制作成不同的形式和選用不同的蒸發(fā)源物質(zhì)。
真空蒸鍍有三層：底漆層（6~12um）+鍍膜層（1~2um）+面漆層（10um），將基材表面雜質(zhì)、灰塵等用布擦拭干凈，提高噴射良率。將基材裝配在專用掛具上，用以固定于流水線上，并按設計要求實現(xiàn)外觀和功能的遮鍍。由于基材是塑膠件，在注塑時候會殘留空氣泡，有機氣體，塑膠表面不夠平整，直接蒸鍍吸附差且不光滑平整，涂一層底漆會提高鍍層的附著性且表面光滑平整效果好。將掛件裝配于真空容器內(nèi)，加熱，實現(xiàn)蒸鍍。
