真空鍍膜技術及設備兩百年發(fā)展歷史
化學鍍膜最早用于在光學元件表面制備保護膜。隨后，1817年，F(xiàn)raunhofe在德國用濃硫酸或硝酸侵蝕玻璃，偶然第一次獲得減反射膜，1835年以前有人用化學濕選法淀積了銀鏡膜它們是最先在世界上制備的光學薄膜。后來，人們在化學溶液和蒸氣中鍍制各種光學薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些應用外，化學溶液鍍膜法逐步被真空鍍膜取代。
真空蒸發(fā)和濺射這兩種真空物理鍍膜工藝，是迄今在工業(yè)領域能夠制備光學薄膜的兩種最主要的工藝。它們大規(guī)模地應用，實際上是在1930年出現(xiàn)了油擴散泵---機械泵抽氣系統(tǒng)之后。
1935年，有人研制出真空蒸發(fā)淀積的單層減反射膜。但它的最先應用是1945年以后鍍制在眼鏡片上。
1938年，美國和歐洲研制出雙層減反射膜，但到1949年才制造出優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品。
1965年，研制出寬帶三層減反射系統(tǒng)。在反射膜方面，美國通用電氣公司1937年制造出第一盞鍍鋁燈。德國同年制成第一面醫(yī)學上用的抗磨蝕硬銠膜。在濾光片方面，德國1939年試驗淀積出金屬—介質(zhì)薄膜Fabry---Perot型干涉濾光片。
在濺射鍍膜領域，大約于1858年，英國和德國的研究者先后于實驗室中發(fā)現(xiàn)了濺射現(xiàn)象。該技術經(jīng)歷了緩慢的發(fā)展過程。
1955年，Wehner提出高頻濺射技術后，濺射鍍膜發(fā)展迅速，成為了一種重要的光學薄膜工藝?，F(xiàn)有兩極濺射、三極濺射、反應濺射、磁控濺射和雙離子濺射等淀積工藝。
自50年代以來，光學薄膜主要在鍍膜工藝和計算機輔助設計兩個方面發(fā)展迅速。在鍍膜方面，研究和應用了一系列離子基新技術。
1953年，德國的Auwarter申請了用反應蒸發(fā)鍍光學薄膜的專利，并提出用離子化的氣體增加化學反應性的建議。
1964年，Mattox在前人研究工作的基礎上推出離子鍍系統(tǒng)。那時的離子系統(tǒng)在10Pa壓力和2KV的放電電壓下工作，用于在金屬上鍍耐磨和裝飾等用途的鍍層，不適合鍍光學薄膜。后來，研究采用了高頻離子鍍在玻璃等絕緣材料上淀積光學薄膜。70年代以來，研究和應用了離子輔助淀積、反應離子鍍和等離子化學氣相等一系列新技術。它們由于使用了帶能離子，而提供了充分的活化能，增加了表面的反應速度。提高了吸附原子的遷移性，避免形成柱狀顯微結(jié)構(gòu)，從而不同程度地改善了光學薄膜的性能，是光學薄膜制造工藝的研究和發(fā)展方向。
實際上，真空鍍膜的發(fā)展歷程要遠遠復雜的多。我們來看一個這個有兩百年歷史的科技歷程：
19世紀
真空鍍膜已有200年的歷史。在19世紀可以說一直是處于探索和預研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。
關鍵詞：真空鍍膜技術
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