CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
特征描述：
馳誠CCZK-SF磁控濺射鍍膜機，具備成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現(xiàn)大面積鍍膜相對于傳統(tǒng)蒸發(fā)鍍膜設備，馳誠磁控濺射鍍膜可獲得更為優(yōu)秀的膜層致密性，均勻性和結合力采用全新的直流或中頻磁控濺射電源，滿足不同層次客戶需求
全新的高速低溫濺射技術，極大的擴展了馳誠CCZK-SF磁控設備的應用范圍，對無法受熱或耐熱力產品提供優(yōu)質的濺射鍍膜解決方案采用馳誠創(chuàng)新工藝制造，精益求精，全面通過歐盟CE和ISO質量管理體系認證；
技術配置
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
腔體結構： 立式前開門，臥式前開門。
材質用料：腔體材質為SUS304不銹鋼或碳鋼
真空系統(tǒng)： 擴散泵（可選分子泵）+羅茨泵+機械泵+維持泵（另有深冷泵系統(tǒng)可供選擇）
濺射靶材： 中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等
磁控電源： 可配備直流或中頻磁控濺射電源
轉動系統(tǒng)： 變頻調速，公自轉結合，可根據(jù)客戶產品和要求設計
膜層結構： 單層膜、多層膜
氣體控制： 氣體流量控制儀集成觸控操作控制
人機界面： PLC智能控制+全彩HMI觸摸屏
操作方式： 邏輯全自動方式、半自動方式、手動方式
智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實現(xiàn)全自動控制
報警及保護：異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施。
其他技術參數(shù)：
極限真空： 5.0×10-4Pa
抽氣速率： 5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa；
備注：
一般規(guī)格：
Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或設備配置可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
應用
適合鍍制高級裝飾膜，合金膜層等。全新的高速反應低溫濺射技術，成就了其高速的薄膜生長能力和優(yōu)秀的膜層均勻度致密性，廣泛應用于塑料餐具，手機外殼、衛(wèi)浴潔具、汽車輪轂，五金飾品及標牌等鍍膜。亦可濺射塑料制品、陶瓷、馬賽克、樹脂、水晶玻璃制品等
樣品圖
