如何掌控真空鍍膜的均勻性
我們先來(lái)認(rèn)識(shí)下怎么調(diào)試鍍膜機(jī)，因?yàn)檎莆照{(diào)試鍍膜機(jī)是使用鍍膜機(jī)的關(guān)鍵怎么調(diào)試鍍膜機(jī)
1、測(cè)試設(shè)備的抽真空速度，在測(cè)試過(guò)程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測(cè)試設(shè)備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時(shí)看壓降是否達(dá)標(biāo)，同時(shí)排除細(xì)小的漏孔；
3、產(chǎn)品試作，檢驗(yàn)其他的性能，比如傳動(dòng)、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續(xù)打樣并作測(cè)試。
5、所有的測(cè)試應(yīng)作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門(mén)或工程部門(mén)的人確認(rèn)簽字
怎么掌控真空鍍膜的均勻性？
由于車(chē)燈鍍膜機(jī)原理的不同分為很多種類(lèi)，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱(chēng)。所以對(duì)于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下面分別說(shuō)一下：
均勻性主要體現(xiàn)在3方面：
1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于多弧離子鍍膜機(jī)的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在。
2.化學(xué)組分上的均勻性：就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機(jī)過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
3.晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題。
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